萧炎也算是鼎鼎有名，在光学领域内也算是赫赫有名的一方人物，距离泰斗级别也仅有一山之隔。
不过想要成为这个泰斗，他还需要更多的研究成果。
“应该是这间办公室吧。”王向中手里拿着谭珊珊给的小纸条，心里多少还是有些忐忑。
不仅是叶志华有提起过，谭珊珊同样还私下有过善意提醒：萧炎教授是一个脾气很古怪的人，性格急躁易怒，反复无常，需要谨慎对待。
最好的相处方式，就是什么事都顺着萧炎教授的意思来。
怀着这份沉重的心情，王向中犹豫了再三，还是敲开了萧炎办公室的门。
“砰砰砰”
“进来。”里面传来了一道声音。
王向中推门进去，便看到一个约莫四五十岁、身着毛毡大衣的中年男子坐在办公桌前，正在以一种疑惑的眼神上下打量着他。
还没等他开口，萧炎便直接开口问道：“你是哪个专业的学生？”
“我是计算机科学技术的学生，王向中，”王向中笑道，“这次是来……”
还没等他继续说下去，萧炎便挥了挥手，不耐烦地将他的话给打断了：“你走错门了，我执教的是光电学，和你们计科毫无关联，请回吧。”
果然是脾气急躁，连话都不想听完，就下逐客令了，真是闻所未闻。
“萧教授，我真的是来找您的。”王向中颇为无奈地解释道：“我是奉谭珊珊所托，特地来和您请教光电学上的问题，顺便把那两个光栅给带到华京去。”
听到这番话，萧炎也是愣了片刻，旋即不可思议地看向王向中：“你就是那个王向中？”
“是我没错。”王向中强颜欢笑着摊了摊手。
这倒是让萧炎有些猝不及防，他倒是知道有个叫王向中的小子会来拜访他，但是他死都没想到，这个叫王向中的小子竟然这么年轻，看上去也就是刚读大一的模样，所以一开始他压根没把两个人想到一起。
他一边想着，脸色也是越发难看起来。
“这个叶志华是在搞什么鬼！”萧炎双掌成拳，懊恼地拍了一下办公桌，“这么小的一个后生崽子，竟然也送去晶华，真是浪费名额！”
他可是好不容易才塞了谭珊珊一个名额进小组的，再看到作为课题发起人的叶志华竟然带了一个本科一年级小鬼进组，自然是心中不平衡起来。
王向中倒是听到了萧教授口中所言，但他也不敢多加辩驳，毕竟谭珊珊已经向他嘱咐过了，千万不要招惹后者。奇书屋
“萧教授，您先别生气，”王向中连忙赔笑解释道：“这次我也是有重要任务在身，私人感情之类的东西请先抛到一边……”
“我呸！”萧炎脸色涨红，大声说道：“你和叶志华到底是什么关系，凭什么你也可以进组？”
哪怕王向中是一个硕士一年级学生，他的心态都能平衡不少。
在他看来，这就是叶志华在浪费科研资源，毕竟他从来没见过一个本科大一学生能做出什么科研成果来。
此刻王向中脸色也有些难看，倒不是因为对方在质疑自己，而是他实在是不知道如何和这个老教授相处。
萧炎见到王向中不吭声了，便也是冷笑了一声，道：“我看你就是去打杂的，也难怪这次会让你你回来拿东西。”
王向中听到这话，便是犹如抓住了一根救命稻草一般，连忙小鸡啄米似的疯狂点头道：“对对对，我是去打杂的，什么脏活累活都是我来干。”
他并不想和萧炎教授在这这些没用的问题上争论不休，索性就借坡下驴，迅速把这个话题给糊弄过去。
听到王向中的解释，萧炎的脸色才算是缓和了不少，旋即接着问道：“小子，你刚才说要向我请教问题，到底是要请教什么，说来听听。”
尽管他脾气急躁易怒，但一码归一码，学术和个人感情问题还是必须区分开来的，即使他看不顺眼王向中，也必须履行作为一个老师的职责。
“没什么，我就是想了解一下二元光栅的具体原理，以及它的制作方法。”王向中笑道。
“什么？”听到这话，萧炎整个人都傻了。
这可是高级的光学内容，没有本科光学基础知识，怎么可能听得懂这玩意？
“你能听得懂？”他半信半疑地喃喃问道，“小子，这可不是叶志华教的计算机原理那么基础的东西，我不相信你能听得懂，你还是先去看看光学基础教材吧。”
“我想试试，看看我能不能听懂。”王向中倒也不退缩，在学术问题上，他一直都有着自己的坚持。
看到王向中那坚毅的表情，萧炎也是愣了好一会，方才意味深长地点了点头，道：“既然你这么坚持，那我就和你讲讲这个光栅是怎么回事吧。”
二元光学的概念起源于十多年前，率先由马省理工学院研究小组在设计新型传感器系统时提出。一般认为二元光学是基于光的衍射理论，利用微电子集成电路制作工艺在片基表面上刻蚀产生两个或多个台阶深度的浮雕结构，形成多相位、同轴再现且具有极高衍射效率的一类衍射光学元件的光学理论技与技术。
二元光学元件可以说是当前光学最新的研究的要点，不仅是i线光刻机可以利用该理论，在日后的DUV、EUV光刻机上，同样也会使用基于该理论的菲涅尔薄待透镜阵列，用于改良光刻机水平。
二元光学的主要着眼点就是采用量化的方法，将相息图连续变化的坡面用台阶来逼近，量化的次数越多，台阶数就越多，也就越趋于接近连续变化的坡面。
“听懂了吗？”萧炎似笑非笑地盯着王向中，“我已经讲得非常简单了。”
王向中闻言，点了点头，道：“如果用更通俗的方式来讲，其实就是利用光的衍射效应，强行在光源固定的情况下，增加更多的坡面，达到变相提升分辨率的办法。”
在光刻的曝光刻蚀这一步时，一般都是直接使用光源曝光光刻胶，形成一个一道一道的坑道，然后使用化学试剂将残余的变性光刻胶洗去，然后再进行掺杂工序。
而使用光栅后，能变相地形成更窄的坑道，也就达到了工艺提升的目标。
虽然这样做不可避免地在曝光刻蚀这一步增加了数百道工序，但在眼下来看，这已经是最佳的改良方式了。
萧炎见状，也是瞳孔一缩，这小子不简单，没想到还真是个行家！ 奇书屋为你提供最快的回到1997造芯片更新，第98章 面见萧炎免费阅读。https://www.yanbkk.com
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